低碳錳鐵鐵*上一般標(biāo)準(zhǔn)為含錳75～80%，中*為適應(yīng)錳礦品位低的原料條件，規(guī)定了含錳較低的牌號(hào)（電爐錳鐵含錳65%以上，高爐錳鐵含錳50%以上）。冶煉碳素錳鐵過去主要用高爐，隨著電力工業(yè)的發(fā)展，用電爐的逐漸增多。西歐和中*用高爐為主，挪威、日本都用電爐，蘇聯(lián)、澳大利亞、巴西等*新建錳鐵工廠也采用電爐。

原子層沉積法(ALD)是基于連續(xù)的氣相前驅(qū)體沉積的化學(xué)過程，能夠*控制單層沉積薄膜厚度。正由于此特性，ALD常用于制備超薄共型膜，從上世紀(jì)90年代以來得到了快速發(fā)展，被廣泛應(yīng)用于電池、水解離、生物醫(yī)藥、半導(dǎo)體、催化劑制備等方面。 ALD對(duì)前驅(qū)體的純度要求很高，沉積所需時(shí)間也較長，成本很高。儀器設(shè)備成本高昂，、生產(chǎn)成本增加，很難實(shí)現(xiàn)大規(guī)模的工業(yè)化，常用于實(shí)驗(yàn)室研究。 

濺射法是一種通過濺射進(jìn)行沉積的物理氣相沉積法。濺射出的原子具有較窄的能量分布，被濺射出的物質(zhì)通常是離子化產(chǎn)物。由于其具有高能量，通常在真空室中直線撞擊基底。但在較高壓氣體環(huán)境中，濺射出的離子會(huì)與氣體分子發(fā)生撞擊，從而改變其運(yùn)動(dòng)方向，*后撞擊在基底上的離子能量較低。 法通常使用Au、Pd、Ag作為靶陰*，制備包覆性催化劑，適用于大面積的均勻涂覆。